よくある質問
製品特長 高品質・急速乾燥システム
用途分野
高品質・急速乾燥システム

@マイクロ波照射

基本的に乾燥槽内の圧力は5〜7Kpaで推移させます。被乾燥物は自らの気化熱によってクーリングされるので、 その際の被乾燥物内部への加熱温度は30〜50℃になります(物質の温度は真空度によってコントロールされます)。

初期水分の約80%は大体これらの温度帯で除去されます。

マイクロ波の照射量は被乾燥物の水分量により決定します。基本的に含水分量が1kgの場合、1kWのマイクロ波を 照射すると、約1時間で800gの水分が除去されます。

この工程をイニシャルとよびます。

Aリターン1 (マイクロ波2次照射)

再びマイクロ波を照射しますが、既に80%以上の水分が除去されていますので、残りの水分20%に見合ったマイクロ波を 照射します。

この工程をリターン1とよびます。

Bリターン2 (マイクロ波3次照射)


リターン1で取り除けなかった水分は、さらに細かくマイクロ波を照射して除去していきます。

この工程をリターン2とよびます。

含水分量が少なくなってくると、気化熱によるクーリングが期待できなくなるため若干温度は高くなりますが、無酸素下において 急速乾燥を行うため、酸化の少ない乾燥品を得ることが可能です。
また、真空下での乾燥はコンタミはほとんど発生しません。

C減圧単体工程(マイクロ波照射なし)

各工程中にマイクロ波照射を中止し、弁を締め切った状態にする減圧工程を設け、その真空度を見ることにより乾燥程度を知ることができます。


 (乾燥プログラムは10パターンまで入力可能です。)

 

真空マイクロ波遠赤外線乾燥機(ハイパードライ) 超高速乾燥で酸化を防止 低温下での水分除去が可能
乾燥を促進させる3つの要素
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