真空マイクロ波遠赤外線乾燥機 - ハイパードライ^®

概要

真空マイクロ遠赤外線乾燥機（ハイパー・ドライ^®）は、 沸点の低い真空下でマイクロ波と遠赤外線を作用させることで、乾燥時間の大幅短縮が可能になりました。

真空下でのスピード乾燥は、酸化が極めて少ない高品質な乾燥品が期待できます。

ハイパードライシステムは世界の多くの国々で特許取得されており、日本国内では日本バイオコンが取得しております。

製品特長①：乾燥を促進させる3つの要素

①真空下では小さな熱エネルギーでも水分を気化させやすくなります。
②マイクロ波は被乾燥物の内部水分を押し出します。
③遠赤外線は押し出された水分を被乾燥物の表面において加熱して速やかに気化させます。

ハイパードライ^®はこれらを同時に作用させることにより、超高速乾燥を行います。

製品特長②：高品質・急速乾燥システム

①マイクロ波照射

基本的に乾燥槽内の圧力は5～7Kpaで推移させます。
被乾燥物は自らの気化熱によってクーリングされるので、その際の被乾燥物内部への加熱温度は30～50℃になります（物質の温度は真空度によってコントロールされます）。
初期水分の約80%は大体これらの温度帯で除去されます。

マイクロ波の照射量は被乾燥物の水分量により決定します。基本的に含水分量が1kgの場合、1kWのマイクロ波を 照射すると、約1時間で800gの水分が除去されます。
この工程をイニシャルとよびます。

②リターン１　（マイクロ波２次照射）

再びマイクロ波を照射しますが、既に80%以上の水分が除去されていますので、残りの水分20%に見合ったマイクロ波を照射します。

この工程をリターン１とよびます。

③リターン２　（マイクロ波３次照射）

リターン１で取り除けなかった水分は、さらに細かくマイクロ波を照射して除去していきます。

この工程をリターン２とよびます。

含水分量が少なくなってくると、気化熱によるクーリングが期待できなくなるため若干温度は高くなりますが、無酸素下において急速乾燥を行うため、酸化の少ない乾燥品を得ることが可能です。

また、真空下での乾燥では、コンタミがほとんど発生しません。

④減圧単体工程（マイクロ波照射なし）

各工程中にマイクロ波照射を中止し、弁を締め切った状態にする減圧工程を設け、その真空度を見ることにより乾燥程度を知ることができます。

（乾燥プログラムは10パターンまで入力可能です。）

用途・分野

日本バイオコンのハイパードライ^®を用いて実際に乾燥した実例です。

【例】葉野菜・ハーブの乾燥　→　急速乾燥のため色・味・香りが最高です。

【例】キャベツ・バナナ（皮無）・ミカンの乾燥　→　そのままの形状で急速乾燥が可能です。

【例】マイタケの乾燥　→　ブロック形状で急速乾燥可能です。

【例】柿の濃縮　→　水分約80%を1時間以内に脱水できるため、新鮮な濃縮品が出来ました。

【例】フカヒレ・アワビの乾燥　→　そのままの形状（ホール）で急速乾燥可能です。

【例】アロエベラの乾燥　→　高分子構造（ヌルヌル構造）と有効成分を備えています。

【例】魚肉の乾燥　→　臭みなく乾燥可能です。TN大学と共同研究実施中です。

【例】セラミックの乾燥　→　通常熱風乾燥で10日程度かかるものが5時間で乾燥出来ました。

【例】医薬品の乾燥　→　乾燥が困難とされているような特殊器具が1時間で乾燥出来ました。

【例】ポリマーの乾燥　→　乾燥困難な特殊製品の乾燥が出来ました。

【例】最先端医療品の乾燥　→　特殊膜の乾燥についてT大学にて研究されております。

ハイパードライは食品会社や医薬品会社などに多数採用されておりますが、今後は化学品、工業品分野などにも期待されております。

また、マイクロ波の性質上、金属類や有機溶媒が混入している製品の乾燥には不向きといわれております。